« 大阪・夢洲地区特定複合観光施設設置運営事業 (仮称)大阪IRプロジェクト 初期投資が約2400億円増加して1兆5130億円に! | トップページ | 地上28階、高さ約132mの「(仮称)心斎橋プロジェクト」 高層階(16階~28階)に「THE GATE HOTEL 大阪 by HULIC」が2026年6月に開業! »

2025年9月15日 (月)

経済産業省 米マイクロン・テクノロジーに最大5,360億円支援 「マイクロン広島工場」で最先端メモリー半導体の量産を後押し!

Hiroshimamicron250911
-マイクロンジャパン-

 「マイクロンジャパン」の前身は「エルピーダメモリ」です。1999年12月20日に「日本電気 (NEC)」 と「日立製作所」のDRAM事業部門が統合して設立された「NEC日立メモリ」が元になっています(Googleマップの衛星写真3Dモードを引用)。

 「エルピーダメモリ」は2012年に会社更生法の適用を申請して経営破綻しました。2013年7月には、「マイクロン・テクノロジー」は「エルピーダメモリ」の全株式を取得して完全子会社化しました。

● 経済産業省がマイクロン広島工場に最大5,360億円を支援!
 経済産業省は2025年9月12日に、アメリカ半導体メモリー大手「マイクロン・テクノロジー」の広島工場の設備投資や研究開発に最大5,360億円を支援すると発表しました。人工知能(AI)や自動運転に使う最先端メモリー半導体の量産を後押します。

 日本経済新聞(2025/09/12)
 米マイクロンに5360億円支援、経産省 広島で1.5兆円追加投資

 マイクロンは2029年度末までに最先端半導体の量産に向け1兆5000億円を投じる計画です。生産設備を増強し、最先端品を月4万枚生産できる能力を整えます。2028年6〜8月に出荷を始め、2030年3〜5月に最大能力で生産できるようにする計画です。

 経済産業省は生産ラインへの設備投資のうち3分の1にあたる最大5000億円を補助します。先端半導体の生産支援を目的とする特定半導体基金から拠出します。支援期間は2029年度までの5年間で、データセンター向けの画像処理半導体(GPU)や自動運転車などでの採用を見込みます。

 経済産業省は選定理由として生産に関わる原材料などの約80%を国内の事業者から調達していることや、日本での採用や人材育成に積極的に取り組んでいることを挙げました。

 マイクロンには量産開始から最低10年間は継続して生産することを求めます。感染症の拡大などで需給が逼迫した際に日本政府からの増産要請に応じることも要件とします。


Hiroshimamicron250912
「マイクロン広島工場」の位置図です(Googleマップを引用)。



|

« 大阪・夢洲地区特定複合観光施設設置運営事業 (仮称)大阪IRプロジェクト 初期投資が約2400億円増加して1兆5130億円に! | トップページ | 地上28階、高さ約132mの「(仮称)心斎橋プロジェクト」 高層階(16階~28階)に「THE GATE HOTEL 大阪 by HULIC」が2026年6月に開業! »

78 広島県・島根県」カテゴリの記事