マイクロン・テクノロジーの「マイクロン広島工場」 1兆5000億円を投資して新しい製造棟を建設 工場西側の土地で造成工事を開始！

－マイクロンジャパン－
　「マイクロンジャパン」の前身は「エルピーダメモリ」です。1999年12月20日に「日本電気 (NEC)」 と「日立製作所」のDRAM事業部門が統合して設立された「NEC日立メモリ」が元になっています（Ｇｏｏｇｌｅマップの衛星写真３Ｄモードを引用）。

　「エルピーダメモリ」は2012年に会社更生法の適用を申請して経営破綻しました。2013年7月には、「マイクロン・テクノロジー」は「エルピーダメモリ」の全株式を取得して完全子会社化しました。

● 1兆5000億円を投資して新しい製造棟を建設！
　アメリカのメモリー大手の「マイクロン・テクノロジー」が広島工場に新しい製造棟を建設します。人工知能（AI）向けの次世代メモリーの出荷を2028年ごろに開始する予定です。

　新棟で生産するのは一時記憶を担うメモリー「DRAM」のなかでも高性能な「広帯域メモリー（HBM）」の次世代品です。投資額は1兆5000億円で、経済産業省が最大5,360億円を補助します。

　先行するライバル韓国の「SKハイニックス」や「サムスン電子」がかつてない天文学的な利益を計上しています。「マイクロン・テクノロジー」としても急ぎたいところです。



新しい製造棟を建設
　どの部分に新しい製造棟を建設するのでしょうか？　既存の製造棟の南側の森の部分しか用地は無いように思います（Ｇｏｏｇｌｅマップの衛星写真を引用）。

● 工場西側の土地で造成工事を開始！
　東広島市にある広島工場では、工場西側の土地で造成工事が始まっています。東広島市に開発許可を申請したのは「マイクロンメモリジャパン」で、予定建築物の用途は工場などとしています。

　工場西側の赤線部分で、「マイクロンメモリジャパン」により造成工事が行われています。敷地面積は約9.5ｈａです。現地の標識では、工事は2028年2月までの予定となっています。

　広島・RCCニュース（2026/02/27）
　マイクロンメモリジャパン　広島工場隣りで造成工事　増築か　次世代半導体の量産を計画

　YouTube　広島・RCC（2026/02/27）
　マイクロンメモリジャパン　広島工場隣りで造成工事　増築か　次世代半導体の量産を計画

　投資額は1兆5000億円ですが、工場建屋の建設費はごく一部で、ほとんどは「半導体製造装置」の金額です。「半導体製造装置」は非常に高価です。オランダの「ASML」の最先端の超高性能「EUV露光装置」の価格は非公表ですが、１台当たり500億円以上だと言われています。

　半導体の生産にはたくさんの工程があり、それぞれに専用の「半導体製造装置」が必要です。いずれも高価なためトータルすると１兆円を超える莫大な金額になります。



「マイクロン広島工場」の位置図です（Ｇｏｏｇｌｅマップを引用）。